Распыление мишени при ассистировании магнетронного разряда ионным пучком; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]; Т. 307, № 7
| Parent link: | Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]/ Томский политехнический университет (ТПУ).— , 2000- Т. 307, № 7.— 2004.— [С. 40-45] |
|---|---|
| Autor Principal: | |
| Outros autores: | , |
| Summary: | Заглавие с титульного листа Электронная версия печатной публикации Рассмотрена проблема управления параметрами магнетронного разряда в условиях его ассистирования пучком ускоренных ионов. Сделана попытка устранить ограничения в скорости осаждения покрытий при реактивном магнетронном распылении материалов на постоянном токе, вызванных образованием химических соединений на мишени. Предложен способ эффективного удаления продуктов химических реакций с поверхности распыляемого материала, основанный на ионном ассистировании магнетронного разряда внешним пучком ускоренных ионов. Рассмотрена комбинированная распылительная система магнетронного диода и ионного источника с замкнутым дрейфом электронов. Изучены ее основные электрофизические и технологические параметры. Показано, что при соблюдении определенных условий (мощность, парциальное давление реактивного газа, скорость подачи рабочей газовой смеси и др.) удается достичь значительного увеличения скорости осаждения оксидных пленок. |
| Idioma: | ruso |
| Publicado: |
2004
|
| Series: | Технические науки |
| Subjects: | |
| Acceso en liña: | http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Bulletin_TPU/2004/v307/i7/09.pdf |
| Formato: | Electrónico Capítulo de libro |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=169980 |
| Descrición Física: | 1 файл (311 Кб) |
|---|---|
| Summary: | Заглавие с титульного листа Электронная версия печатной публикации Рассмотрена проблема управления параметрами магнетронного разряда в условиях его ассистирования пучком ускоренных ионов. Сделана попытка устранить ограничения в скорости осаждения покрытий при реактивном магнетронном распылении материалов на постоянном токе, вызванных образованием химических соединений на мишени. Предложен способ эффективного удаления продуктов химических реакций с поверхности распыляемого материала, основанный на ионном ассистировании магнетронного разряда внешним пучком ускоренных ионов. Рассмотрена комбинированная распылительная система магнетронного диода и ионного источника с замкнутым дрейфом электронов. Изучены ее основные электрофизические и технологические параметры. Показано, что при соблюдении определенных условий (мощность, парциальное давление реактивного газа, скорость подачи рабочей газовой смеси и др.) удается достичь значительного увеличения скорости осаждения оксидных пленок. |