Моноатомные ступени на поверхности кремния

Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Латышев А. В. Александр Васильевич
Korporativní autor: Российская академия наук Сибирское отделение Институт физики полупроводников (РАН СО ИФП)
Další autoři: Асеев А. Л. Александр Леонидович
Shrnutí:В книге представлены результаты исследований структурных процессов, протекающих на поверхности кремния при сублимации, адсорбции, гомо- и гетероэпитаксиальном росте, термическом отжиге и газовых реакциях, полученные с помощью разработанного в ИФП СО РАН уникального диагностического метода — in situ сверхвысоковакуумной отражательной электронной микроскопии. Для физиков, специалистов и студентов, занимающихся вопросами материаловедения, физики кристаллизации, молекулярно-лучевой эпитаксии, атомными процессами на поверхности твердого тела, методами наноструктурирования, нанодиагностики и развитием кремниевых нанотехнологий.
Jazyk:ruština
Vydáno: Новосибирск, Изд-во СО РАН, 2006
Témata:
Médium: Kniha
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=115748

MARC

LEADER 00000nam0a2200000 4500
001 115748
005 20231101215300.0
010 |a 5769208562 
035 |a (RuTPU)RU\TPU\book\125194 
090 |a 115748 
100 |a 20070514d2006 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
105 |a a z 001zy 
200 1 |a Моноатомные ступени на поверхности кремния  |f А. В. Латышев, А. Л. Асеев  |g Сибирское отделение РАН; Институт физики полупроводников 
210 |a Новосибирск  |c Изд-во СО РАН  |d 2006 
215 |a 242 с.  |c ил. 
320 |a Предметный указатель: с. 207-209. 
320 |a Библиография: с. 210-241. 
330 |a В книге представлены результаты исследований структурных процессов, протекающих на поверхности кремния при сублимации, адсорбции, гомо- и гетероэпитаксиальном росте, термическом отжиге и газовых реакциях, полученные с помощью разработанного в ИФП СО РАН уникального диагностического метода — in situ сверхвысоковакуумной отражательной электронной микроскопии. Для физиков, специалистов и студентов, занимающихся вопросами материаловедения, физики кристаллизации, молекулярно-лучевой эпитаксии, атомными процессами на поверхности твердого тела, методами наноструктурирования, нанодиагностики и развитием кремниевых нанотехнологий. 
606 |a Диагностика поверхности  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\subj\9424  |9 36677 
610 1 |a кремний 
610 1 |a поверхность 
610 1 |a моноатомные ступени 
610 1 |a отражательная электронная микроскопия 
610 1 |a кристаллы 
610 1 |a реальные поверхности 
610 1 |a структура 
610 1 |a сублимация 
610 1 |a эшелонирование 
610 1 |a фазовые переходы 
610 1 |a эпитаксиальный рост 
610 1 |a примесно-индуцированная реконструкция 
610 1 |a кислород 
610 1 |a адсорбция 
675 |a 539.211  |v 3 
700 1 |a Латышев  |b А. В.  |g Александр Васильевич 
701 1 |a Асеев  |b А. Л.  |g Александр Леонидович 
712 0 2 |a Российская академия наук  |b Сибирское отделение  |b Институт физики полупроводников (РАН СО ИФП)  |c (Новосибирск)  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\197 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20070514  |g PSBO 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20180207  |g PSBO 
942 |c BK 
959 |a 39/20070514  |d 1  |e 0  |f НФ:1